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　　Display 產線上使用(yong)的Mask 為兩種：Array 段和CF 段 (TFT-LCD)用(yong)的、以石英玻(bo)璃為基礎材料的曝光Photomask; 和AMOLED 段以金屬為基本(ben)材料的Mask (Open Mask & FMM)。

　　Array 段(duan)用(yong)的曝光Mask 為阻光曝光用(yong)，其基本材料(liao)為石英玻(bo)璃，通過在(zai)玻(bo)璃上(shang)制作(zuo)金屬鉻Cr 作(zuo)為光遮蓋(gai)。

　　在使(shi)用時Cr 面與(yu)PR 膠接觸進(jin)(jin)行曝(pu)光。Photomask 可以進(jin)(jin)一步被分為(wei)Binary Mask 和Half-tone Mask(3)：

　　• Binary Mask: 該類型mask 上區(qu)域分為全透光區(qu)域和不透明區(qu)域。

　　• Half-tone Mask: 除去以(yi)上兩個區(qu)域(yu)外，該Mask 上還存在(zai)半(ban)透明區(qu)域(yu)。通(tong)過控制半(ban)透明區(qu)域(yu)的(de)(de)光透過量(liang)可以(yi)控制下方PR 膠(jiao)刻蝕后(hou)的(de)(de)圖案(an)的(de)(de)高度。該Mask 亦(yi)被稱為(wei)Gray-Scale Mask 和D Mask。

　　Fig L Binary Mask 和Half-tone Mask(3)

　　Table L1 PhotoMask 主要參數(3)

　　**Soda: Sodium Carbonate

　　Open Mask 和FMM 材料(liao)為(wei)(wei)合(he)金，其材質一般為(wei)(wei)因瓦合(he)金，簡稱為(wei)(wei)INVAR。INVAR 為(wei)(wei)是鎳Ni 含量為(wei)(wei)35.4%左右的鐵合(he)金， 且在(zai)-20℃~20℃下熱膨(peng)脹系數平均值為(wei)(wei)1.6 × 10-6/℃。

　　Open Mask 主(zhu)要使用與AMOLED 中(zhong)HIL、HTL 和金屬(shu)的(de)蒸鍍(du)。在AMOLED 技術的(de)WLOED 中(zhong)亦得到廣泛的(de)運(yun)用。Open Mask 其與FMM 主(zhu)要區別是(shi)精(jing)度上的(de)差異。

　　FMM 掩模版為(wei)顯(xian)示屏(ping)生產(chan)必不(bu)可少的一個(ge)材料。在AMOLED 的生產(chan)中，FMM 主要運用于AMOLED 段RGB 材料的蒸鍍(du)所用。

　　產線上使(shi)用FMM 蒸鍍(du)AMOLED 時，除去在較(jiao)高溫度下（80℃左右(you)）金屬形變(bian)和金屬熱膨(peng)脹的不利影響外，隨著(zhu)FMM 尺寸的變(bian)大，FMM 中部亦容易產生形變(bian)，導(dao)致蒸鍍(du)材料的錯位(wei)，并最(zui)終產生EML 層錯位(wei)混色和金屬過(guo)孔(kong)無(wu)法覆蓋等現象。

　　因為(wei)在現階段FMM 很難兼顧大面積、低重量、低熱膨脹系數的要求，所以(yi)在產線上往往在cell 段對做完TFT 的玻璃基板采取切半或切四的方法進行蒸(zheng)鍍(du)以(yi)提高(gao)良率。

　　Table L2 FMM 主要參數(4)

　　因為蒸鍍(du)材料會在(zai)FMM上(shang)沉積，所以(yi)(yi)FMM從理論(lun)上(shang)而言(yan)是一種昂(ang)貴的(de)易耗品。在(zai)產線上(shang)生(sheng)產時，FMM在(zai)進行(xing)數次蒸鍍(du)后都需要進行(xing)清洗，而同(tong)一個工(gong)藝段往(wang)(wang)往(wang)(wang)需要多(duo)塊FMM作為備(bei)用且相互輪(lun)流進行(xing)蒸鍍(du)以(yi)(yi)保(bao)證生(sheng)產的(de)效(xiao)率。

　　生產FMM的(de)方式主(zhu)要有三(san)種(1)：蝕(shi)刻、電鑄和多(duo)重(zhong)材料(liao)復合。

　　主要的OLED面板用如大(da)日本印刷(Dai Nippon Printing)、凸版印刷(TOPPAN)和達運等均采用蝕刻(ke)技術(shu)；

　　而日本Athene與Hitachi Maxell則更擅長與電(dian)鑄(zhu)領域(版厚約(yue)5 um)；

　　多重材料(liao)復合法(fa)主要(yao)采用(yong)樹脂和金屬材料(liao)混合以(yi)制作FMM以(yi)應對(dui)熱膨脹，V-Technology目前具(ju)有做到厚度為5um，且成膜(mo)精度位置(zhi)為2um FMM的能力（向(xiang)1 um發展）(1)。

　　Table L3 FMM Supplier(2)